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微細(xì)加工技術(shù) 版權(quán)信息
- ISBN：7502560777
- 條形碼：9787502560775 ; 978-7-5025-6077-5
- 裝幀：簡裝本
- 冊數(shù)：暫無
- 重量：250
- 所屬分類：>
微細(xì)加工技術(shù) 內(nèi)容簡介
本書是《現(xiàn)代加工技術(shù)叢書》之一。本書從微細(xì)加工技術(shù)的基礎(chǔ)知識講起，較為詳細(xì)地介紹了光學(xué)曝光技術(shù)、光學(xué)分辨率增強技術(shù)、電子束光刻技術(shù)、X射線光刻技術(shù)、極端遠(yuǎn)紫外光刻技術(shù)、刻蝕技術(shù)以及其他納米加工技術(shù)。本書較為全面地反映了我國微細(xì)加工技術(shù)的現(xiàn)狀，并在此基礎(chǔ)上介紹了國際微細(xì)加工的先進(jìn)技術(shù)及其發(fā)展趨勢，是從事微細(xì)加工技術(shù)的科研人員、本科生、研究生以及對微電子感興趣的人員的參考書。
微細(xì)加工技術(shù) 目錄
"第1章 微細(xì)加工技術(shù)簡介
1.1 微細(xì)加工技術(shù)的發(fā)展歷程
1.2 微細(xì)加工技術(shù)的發(fā)展趨勢
1.3 微細(xì)加工裝備的研究現(xiàn)狀和技術(shù)發(fā)展趨勢
1.4 微細(xì)加工工藝的基本流程
1.5 微細(xì)加工技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)
第2章 光學(xué)曝光技術(shù)
2.1 接觸式和接近式曝光技術(shù)
2.2 光學(xué)投影成像曝光技術(shù)
2.3 光致抗蝕劑
2.4 光掩模制造技術(shù)
2.5 193nm光刻技術(shù)
第3章 光學(xué)分辨率增強技術(shù)
3.1 光學(xué)鄰近效應(yīng)校正技術(shù)（OPC）
3.2 移相掩模技術(shù)（PSM）
3.3 離軸照明技術(shù)
3.4 光學(xué)曝光技術(shù)的局限
1.1 微細(xì)加工技術(shù)的發(fā)展歷程
1.2 微細(xì)加工技術(shù)的發(fā)展趨勢
1.3 微細(xì)加工裝備的研究現(xiàn)狀和技術(shù)發(fā)展趨勢
1.4 微細(xì)加工工藝的基本流程
1.5 微細(xì)加工技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)
第2章 光學(xué)曝光技術(shù)
2.1 接觸式和接近式曝光技術(shù)
2.2 光學(xué)投影成像曝光技術(shù)
2.3 光致抗蝕劑
2.4 光掩模制造技術(shù)
2.5 193nm光刻技術(shù)
第3章 光學(xué)分辨率增強技術(shù)
3.1 光學(xué)鄰近效應(yīng)校正技術(shù)（OPC）
3.2 移相掩模技術(shù)（PSM）
3.3 離軸照明技術(shù)
3.4 光學(xué)曝光技術(shù)的局限
第4章 電子束光刻技術(shù)
4.1 電子曝光系統(tǒng)概述
4.2 電子束曝光系統(tǒng)的曝光原理
4.3 電子束曝光系統(tǒng)的基本結(jié)構(gòu)
4.4 電子束抗蝕劑
4.5 電子散射與鄰近效應(yīng)
4.6 其他先進(jìn)的電子束曝光系統(tǒng)
第5章 X射線光刻技術(shù)
5.1 X射線光刻的發(fā)展歷史及技術(shù)特點
5.2 X射線光刻技術(shù)的關(guān)鍵組成部分
第6章 極端遠(yuǎn)紫外光刻技術(shù)
6.1 EUVL的基本原理
6.2 EUVL的光源
6.3 EUVL的成像系統(tǒng)
6.4 EUVL的光刻掩模
6.5 EUVL的光刻技術(shù)展望
第7章 刻蝕技術(shù)
7.1 濕法刻蝕技術(shù)
7.2 干法刻蝕技術(shù)
7.3 RIE刻蝕
7.4 ICP刻蝕技術(shù)
7.5 今后的發(fā)展趨勢和待解決的問題
第8章 其他納米加工技術(shù)
8.1 聚焦離子束技術(shù)（FIB）
8.2 壓印圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)
8.3 三維圖形加工技術(shù)
8.4 自組織生長技術(shù)"
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