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多相流旋轉(zhuǎn)耦合場制備Si3N4顆粒霧化過程流場分析 版權(quán)信息
- ISBN:9787563976836
- 條形碼:9787563976836 ; 978-7-5639-7683-6
- 裝幀:平裝-膠訂
- 冊數(shù):暫無
- 重量:暫無
- 所屬分類:>>
多相流旋轉(zhuǎn)耦合場制備Si3N4顆粒霧化過程流場分析 內(nèi)容簡介
本書深人地闡述了多相流旋轉(zhuǎn)耦合場制備Si3N4顆粒的霧化過程,同時重點(diǎn)對霧化噴嘴結(jié)構(gòu)與多相流旋轉(zhuǎn)耦合場制備Si3N4顆粒的霧化效果進(jìn)行了詳細(xì)、系統(tǒng)的論述。
多相流旋轉(zhuǎn)耦合場制備Si3N4顆粒霧化過程流場分析 目錄
第pan style="font-family: 宋體;">章緒論·1.pan style="font-family: 宋體;">研究背景1.2SigN:顆粒制備研究現(xiàn)狀1.3黏結(jié)液霧化效果對SigN。顆粒質(zhì)量的影響1.4霧化噴嘴內(nèi)部流場和外部噴霧特分析1.5研究內(nèi)容及意義第2章多相流旋轉(zhuǎn)耦合場制備Si3N顆粒霧化過程數(shù)值模擬基礎(chǔ)2.pan style="font-family: 宋體;">氣液兩相流模型2.2湍流模型2.3黏結(jié)液霧化過程數(shù)學(xué)模型…2.4黏結(jié)液霧化過程物理模型及相關(guān)參數(shù)設(shè)定2.5本章小結(jié)第3章噴嘴入口結(jié)構(gòu)對多相流旋轉(zhuǎn)耦合場制備Si3N顆粒霧化過程的影響3.pan style="font-family: 宋體;">噴嘴切向入口數(shù)目對黏結(jié)液霧化特的影響…3.2噴嘴切向入口傾斜角度對黏結(jié)液霧化特的影響3.3本章小結(jié)第4章噴嘴旋流室結(jié)構(gòu)對多相流旋轉(zhuǎn)耦合場制備Si3N:顆粒霧化過程的影響4.pan style="font-family: 宋體;">噴嘴旋流室高度對黏結(jié)液霧化特的影響4.2噴嘴旋流室內(nèi)徑對黏結(jié)液霧化特的影響4.3本章小結(jié)第5章噴嘴出口結(jié)構(gòu)對多相流旋轉(zhuǎn)耦合場制備Si3N顆粒霧化過程的影響5.pan style="font-family: 宋體;">噴嘴出口形狀對黏結(jié)液霧化特的影響…5.2噴嘴出口內(nèi)徑對黏結(jié)液霧化特的影響…5.3本章小結(jié)第6章多相流旋轉(zhuǎn)耦合場制備Si3N:顆粒霧化過程數(shù)值模擬實驗驗證6.pan style="font-family: 宋體;">實臺6.2實驗原料及制備方法6.3實驗結(jié)果分析6.4本章小結(jié)第7章結(jié)論與展望7.pan style="font-family: 宋體;">結(jié)論7.2展望參考文獻(xiàn)附錄
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